Hafnium tetraklorida | Bubuk HfCl4 | CAS 13499-05-3 | Harga pabrik

Deskripsi Singkat:

Hafnium tetraklorida memiliki aplikasi penting sebagai prekursor hafnium oksida, katalis untuk sintesis organik, aplikasi nuklir, dan deposisi lapisan tipis, menyoroti fleksibilitas dan pentingnya dalam berbagai bidang teknologi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Kirim email ke kami

Detail Produk

Label Produk

Deskripsi Produk

Pengantar singkat

Nama Produk: Hafnium tetraklorida
Nomor CAS: 13499-05-3
Rumus Senyawa: HfCl4
Berat Molekul: 320,3
Penampakan: Bubuk putih

Spesifikasi

Barang	Spesifikasi
Penampilan	Bubuk Putih
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Aplikasi

Prekursor Hafnium Dioksida: Hafnium tetraklorida terutama digunakan sebagai prekursor untuk memproduksi hafnium dioksida (HfO2), material dengan sifat dielektrik yang sangat baik. HfO2 banyak digunakan dalam aplikasi dielektrik high-k untuk transistor dan kapasitor dalam industri semikonduktor. HfCl4 sangat penting dalam pembuatan perangkat elektronik canggih karena kemampuannya untuk membentuk lapisan tipis hafnium dioksida.
Katalis sintesis organik: Hafnium tetraklorida dapat digunakan sebagai katalis untuk berbagai reaksi sintesis organik, terutama polimerisasi olefin. Sifat asam Lewisnya membantu membentuk zat antara yang aktif, sehingga meningkatkan efisiensi reaksi kimia. Aplikasi ini sangat berharga dalam produksi polimer dan senyawa organik lainnya dalam industri kimia.
Aplikasi Nuklir: Karena penampang serapan neutronnya yang tinggi, hafnium tetraklorida banyak digunakan dalam aplikasi nuklir, terutama pada batang kendali reaktor nuklir. Hafnium dapat menyerap neutron secara efektif, sehingga merupakan material yang cocok untuk mengatur proses fisi, yang membantu meningkatkan keselamatan dan efisiensi pembangkitan tenaga nuklir.
Deposisi Lapisan Tipis: Hafnium tetraklorida digunakan dalam proses pengendapan uap kimia (CVD) untuk membentuk lapisan tipis dari bahan berbasis hafnium. Lapisan ini penting dalam berbagai aplikasi, termasuk mikroelektronika, optik, dan lapisan pelindung. Kemampuan untuk mengendapkan lapisan yang seragam dan berkualitas tinggi membuat HfCl4 berharga dalam proses manufaktur tingkat lanjut.