Hafnium tetrachloride | HFCL4 Powder | CAS 13499-05-3 | Harga pabrik

Hafnium tetrachloride | HFCL4 Powder | CAS 13499-05-3 | harga fitur harga pabrik

Deskripsi Singkat:

Hafnium tetrachloride memiliki aplikasi penting sebagai prekursor hafnium oksida, katalis untuk sintesis organik, aplikasi nuklir, dan deposisi film tipis, menyoroti keserbagunaan dan pentingnya dalam berbagai bidang teknologi.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Kirim Email ke Kami

Detail Produk

Tag produk

Deskripsi produk

Pendahuluan singkat

Nama Produk: Hafnium tetrachloride
CAS NO.: 13499-05-3
Formula majemuk: HFCL4
Berat molekul: 320.3
Penampilan: Bedak putih

Spesifikasi

Barang	Spesifikasi
Penampilan	Bubuk putih
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Aplikasi

Prekursor hafnium dioksida: Hafnium tetrachloride terutama digunakan sebagai prekursor untuk menghasilkan hafnium dioksida (HFO2), bahan dengan sifat dielektrik yang sangat baik. HFO2 banyak digunakan dalam aplikasi dielektrik K tinggi untuk transistor dan kapasitor dalam industri semikonduktor. HFCL4 sangat penting dalam pembuatan perangkat elektronik canggih karena kemampuannya untuk membentuk film tipis hafnium dioksida.
Katalis sintesis organik: Hafnium tetrachloride dapat digunakan sebagai katalis untuk berbagai reaksi sintesis organik, terutama polimerisasi olefin. Sifat asam Lewis -nya membantu membentuk perantara aktif, sehingga meningkatkan efisiensi reaksi kimianya. Aplikasi ini sangat berharga dalam produksi polimer dan senyawa organik lainnya dalam industri kimia.
Aplikasi Nuklir: Karena penampang penyerapan neutron yang tinggi, hafnium tetrachloride banyak digunakan dalam aplikasi nuklir, terutama pada batang kontrol reaktor nuklir. Hafnium dapat secara efektif menyerap neutron, sehingga merupakan bahan yang cocok untuk mengatur proses fisi, yang membantu meningkatkan keamanan dan efisiensi pembangkit listrik tenaga nuklir.
Deposisi film tipis: Hafnium tetrachloride digunakan dalam proses uap kimia (CVD) untuk membentuk film tipis bahan berbasis hafnium. Film -film ini sangat penting dalam berbagai aplikasi, termasuk mikroelektronika, optik, dan pelapis pelindung. Kemampuan untuk menyetor film yang seragam dan berkualitas tinggi membuat HFCL4 berharga dalam proses manufaktur lanjutan.